icon

Chemical Mechanical Planarization (CMP)

การควบคุมปริมาณออกซิเจนละลายน้ำ ช่วยในการจัดการการเกิดออกซิเดชันและการกัดกร่อนบนพื้นผิวเวเฟอร์ การควบคุมค่า DO อย่างแม่นยำจะช่วยให้มั่นใจได้ว่าการขัดเงาจะมีความสม่ำเสมอ ลดการเกิดตำหนิ และเพิ่มประสิทธิภาพของกระบวนการปรับระเบียบผิวหน้าให้เรียบ (Planarization process)

image

Epitaxy

การเจริญเติบโตของชั้นผลึกบางบนเวเฟอร์มีความไวต่อระดับ DO เป็นอย่างมาก การรักษาความเข้มข้นของ DO ให้ต่ำเป็นพิเศษ (Ultra-low DO) จะช่วยให้การเติบโตของชั้นผลึกมีความสม่ำเสมอ และส่งผลให้ได้คุณสมบัติทางไฟฟ้าที่เหมาะสมที่สุด ซึ่งส่งผลกระทบโดยตรงต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์ (Device performance)

หยดน้ําบนเซมิคอนดักเตอร์

การเพิ่มประสิทธิภาพการจัดการวัฏจักรของน้ำในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

โซลูชั่นขั้นสูงเพื่อรับประกันคุณภาพน้ำบริสุทธิ์พิเศษ

โบรชัวร์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์

โบรชัวร์ความเป็นเลิศด้านการวิเคราะห์สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

โซลูชันหลักสำหรับกระบวนการผลิตที่มีประสิทธิภาพและปลอดภัยในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

นักวิเคราะห์ห้องปฏิบัติการถือเซมิคอนดักเตอร์

นวัตกรรมในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

ตั้งแต่การประมวลผลเวเฟอร์ไปจนถึงการประกอบขั้นสุดท้าย

เซ็นเซอร์วัดค่าออกซิเจนที่ละลายน้ำ
เซ็นเซอร์และโพรบวัดค่าความต้านทานไฟฟ้า
ฉันต้องการที่จะ...
มีอะไรให้เราช่วยได้บ้าง?
ทีมผู้เชี่ยวชาญของเราพร้อมช่วยเหลือในการเลือกสินค้าให้ตรงกับความต้องการ