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Pulizia prima della fotolitografia

I contaminanti organici possono impedire la corretta adesione dello strato di fotoresist, causando difetti nel processo di patterning. Il monitoraggio del TOC aiuta a verificare che gli agenti di pulizia e l'acqua di risciacquo siano privi di impurità organiche.

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Pulizia dopo incisione o impianto

I materiali organici residui e altri contaminanti possono interferire con le fasi di lavorazione successive e degradare le prestazioni del dispositivo. Il monitoraggio del TOC garantisce che questi contaminanti vengano rimossi efficacemente per prevenire difetti.

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Pianarizzazione chimico-meccanica

Questa fase di lucidatura utilizza una sospensione di sostanze chimiche e abrasivi per levigare le superfici dei wafer. I contaminanti organici nella sospensione possono causare graffi sulla superficie o lasciare residui. L'analisi del TOC conferma la pulizia della sospensione e delle sostanze chimiche per mantenere la qualità del wafer.

Nessuna singola misurazione cattura l’intero quadro della qualità dell’acqua ultrapura. La resistività lavora insieme a diversi altri parametri online per garantire l’integrità del processo.

Seleziona un parametro per saperne di più:

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