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Nettoyage avant la photolithographie

Les contaminants organiques peuvent empêcher une bonne adhérence de la couche de photorésine, ce qui entraîne des défauts lors du processus de structuration. La surveillance du COT permet de vérifier que les agents de nettoyage et l'eau de rinçage sont exempts d'impuretés organiques.

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Nettoyage après gravure ou implantation

Les résidus de matières organiques et autres contaminants peuvent perturber les étapes de traitement suivantes et nuire aux performances du dispositif. La surveillance du COT permet de s'assurer que ces contaminants sont efficacement éliminés afin de prévenir les défauts.

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Planarisation chimico-mécanique

Cette étape de polissage utilise une suspension contenant des produits chimiques et des abrasifs pour lisser la surface des plaquettes. Les contaminants organiques présents dans la suspension peuvent provoquer des rayures à la surface ou laisser des résidus. L'analyse du COT permet de vérifier la propreté de la suspension et des produits chimiques afin de garantir la qualité des plaquettes.

Aucune mesure unique ne capture l'image complète de la qualité de l'eau ultrapure. La résistivité fonctionne en parallèle avec plusieurs autres paramètres en ligne pour assurer l'intégrité du processus.

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