Tiếng Việt
icon

Làm phẳng bề mặt bằng cơ học hóa học (CMP)

Dung dịch dùng trong CMP chứa các hóa chất mà hiệu suất và độ chọn lọc phụ thuộc rất nhiều vào pH. Kiểm soát pH chính xác là điều cần thiết để đảm bảo tốc độ đánh bóng tối ưu, ngăn ngừa hư hỏng wafer và đạt được độ phẳng bề mặt đồng đề

Icon Photolithography

Xử lý chất cản quang

Dung dịch phát triển và loại bỏ chất cản quang có yêu cầu pH cụ thể. Mức pH không chính xác có thể dẫn đến quá trình phát triển mẫu chất cản quang kém hoặc loại bỏ không hoàn toàn, gây ra các khuyết tật trong quá trình chuyển mẫu.

Tôi muốn…
Bạn cần hỗ trợ?
Đội ngũ của Chúng tôi luôn sẵn sàng.