リアルタイム顕微鏡 インライン顕微鏡 | メトラー・トレド
リアルタイム顕微鏡

PVM粒径・粒度分布分析装置

プローブ型顕微鏡による結晶、粒子、液滴のリアルタイム顕微鏡観察

 

画像に基づくデータを使用して難しい粒子問題を解決

リアルタイム顕微鏡の一般的なアプリケーションには以下があります。

  • 結晶粒度分布と結晶形の制御
  • 溶解度と準安定領域(MSZW)を使用した晶析プロセスの開発
  • 晶析における種晶添加の検討と最適化
  • 相分離(オ...

リアルタイム顕微鏡の一般的なアプリケーションには以下があります。


2001 年にLasentecを買収したメトラー・トレドは、FBRM技術によるParticleTrackおよびPVM技術によるParticleViewの開発を継続的に続けてまいりました。弊社のプローブベーステクノロジーは、世界中のR&Dラボから製造プラントにおいて数千もの導入実績を誇り、プロセスに実存する粒子システムと液滴システムの変化速度と変化度合いを測定し、溶液中を視覚化するための業界標準機として認められています。


 

PVMに基づくParticleView
ParticleViewの使用方法

モデル/仕様

粒子の画像と測定(PVM)モデル

 
モデル/仕様
フィルター:
フィルター
すべてをクリア
 
プローブ接液部材質
プローブウィンドウ材質
プローブ接液部温度範囲
プローブ接液部圧力範囲
認証
品番: 14000031
詳細をご覧ください
プローブ接液部材質C22アロイ
プローブウィンドウ材質サファイア
プローブ接液部温度範囲-80 °C ~ 120 °C (パージ); 10 °C ~ 120 °C (標準)
プローブ接液部圧力範囲0 barg ~ 10 barg (標準); 最大100 barg (カスタム)
認証IEC/UL/CSA 61010-1; EN 61326-1; Class 1 Laser Device compliant with 21CFR1040.10, 21CFR1040.11 and IEC 60825; Probe back end rated for IP65 and 4X
対象Laboratory: EasyMax, OptiMax or Larger
ソフトウェアiC PVM
イメージングシステムフロントレーザー: 後方散乱画像; バックレーザー: オプションのクランプオンリフレクターを用いた透過画像
イルミネーション内部 光源; フロントレーザー: 4; バックレーザー: 4
プローブウィンドウシールTM (標準、Oリングなし)
プローブ直径19 mm [0.75 in]
プローブ接液部長さ400 mm [15.75 in]
コンジット長さ2 m [6.6 ft]
視野1300 μm x 890 μm
解像度> 2 μm
ピクセル1500 x 1024 pixels
重要1.45 kg [3.20 lb]
エア要件Always use clean, dry instrument quality air or Nitroge; Always use clean, dry instrument quality air or Nitrogen; Low flow purge (optional, use to avoid condensation), 1.4 barg [20 psig
電源 (3)電源供給USBエクステンダー; 100-240V (自動切替)、50/60Hz、0.3A
比較

関連文書

プローブベースのリアルタイム顕微鏡の関連文書

データシート

ParticleView V19(日本語版)
粒子サイズや形状の研究のために粒子や粒子のメカニズムをリアルタイムで視覚化
iC PVM Software(英語版)
iC PVMを使用して粒子サイズ、形状、濃度をリアルタイムで確認

ホワイトペーパー

7つの晶析メカニズム(日本語版)
このガイドでは、晶析プロセスに影響する可能性のある7つの隠れたメカニズムと、それらを制御する戦略について説明します。
化学プロセスの晶析工程(日本語版)
現在、効果的な晶析プロセスの開発に多くの時間が費やされており、不純物の排除と効率的な下流プロセスが重要な中間合成ステップの改善や、厳格に規制されたガイドラインに従い、望ましい生体利用効率を示す晶析プロセスで活性成分が生成されるように、最終合成ステップの最適化が求められています。シンプルなプロセス分析...
シンプルな画像分析を使用して晶析を最適化する方法(日本語版)
不必要な保持時間を迅速に把握し、冷却速度が結晶成長と核生成にどのように影響するかを判断することで、中間体の晶析サイクル時間を60%短縮しています。
化成品製造プロセスを最適化 粒度分布測定(日本語版)
このホワイトペーパーでは、粒度分析のアプローチの中から最も一般的なものをいくつかご紹介し、高品質な粒子製品を効果的に提供するための導入方法についてもご説明します。 オフライン式の粒度分布計とインラインの粒子測定装置を組み合わせることで、プロセスの最適化と改善が可能になったことは大きな意味を持ちます。...

アプリケーション

晶析操作
純度、収率、形状、粒度の仕様に適合した生成物を製造するための晶析と沈殿のスケールアップと最適化は、プロセス開発の中でも最も大きな課題の1つです。
バッチ晶析
適切に設計されたバッチ晶析プロセスは、求められる結晶粒度、収率、形状および純度を得ながら製造規模にうまくスケールアップすることができます。バッチ晶析の最適化には、晶析装置の温度(または溶媒組成)の適切な制御の維持が重要です。
Solubility and Metastable Zone Width (mzw) Determination
溶解度曲線は一般的に溶解度、温度、溶媒の種類の関係性を示すのに用いられます。温度と溶解度の関係性をグラフにすることで、科学者は求める晶析プロセスの開発に必要なフレームワークを作成できます。適切な溶媒を選定すると、溶解度曲線は効果的な晶析プロセスの開発にとって不可欠なツールとなります。
Crystal Nucleation and Growth
科学者や技術者は、プロセス中の過飽和レベルを注意深く調整することにより、晶析プロセスを制御できます。過飽和は晶析の核生成や成長の原動力であり、最終的な結晶粒度分布を絶対的に決定付けます。
Measure Crystal Size Distribution
インプロセスのプローブベース技術ではサンプリングや希釈を行なう必要がなく、原液濃度で粒度や形状の変化を追跡するために利用されます。粒子や結晶に生じる変化の速度や程度をリアルタイム追跡することで、晶析性能のプロセスパラメータを最適化できます。
晶析における種晶添加プロトコール
種晶添加は、晶析挙動の最適化における最も重要なステップの1つです。種晶添加戦略を設計する場合は、種晶サイズ、種晶の量(質量)、種晶添加温度などのパラメータを考慮する必要があります。これらのパラメータは、通常はプロセス速度と希望する最終的な粒子特性に基づいて最適化され、スケールアップや技術移転の際には...
貧溶媒の滴下による過飽和
貧溶媒晶析では、溶媒の滴下速度、滴下場所、攪拌が、容器やパイプライン内部での局所的過飽和に影響を与えます。科学者やエンジニアは、貧溶媒滴下プロトコルおよび過飽和度を調整することで結晶サイズと個数を変更しています。
温度が結晶のサイズと形状に与える影響
冷却プロファイルは、過飽和と晶析速度に大きな影響を与えます。最適な結晶の成長と核化のバランスが得られるように、結晶の表面積に合わせてプロセス温度を最適化します。高度な温度コントロールにより過飽和を制御することで結晶サイズや形状を変化させることができます。
温度が結晶サイズと形状に与える影響
晶析装置のスケールや混合条件を変更すると、晶析プロセスの反応速度や最終的な結晶サイズに直接影響を及ぼす可能性があります。 熱や物質移動の影響は、冷却システムおよび貧溶媒システムでそれぞれ考慮することが重要です。このようなシステムでは、温度や濃度勾配により過飽和度に不均等性が生じる可能性があるからです...
プロセス分析技術(PAT)
プロセス分析技術(PAT)は、研究開発、スケールアップ、製造を変革します。PATは、生産性の概念を刷新し、安全性を向上し、迅速な問題解決につながる測定を可能にします。プロセス分析技術(PAT)のアプリケーション範囲は、化学反応のモニタリングから晶析、製剤、バイオプロセスまで多岐にわたります。

関連製品とソリューション

メトラー・トレドのLasentec FBRM
FBRM技術(収束ビーム反射測定法)を用いて、プローブベースの機器を直接プロセス中に差し込んで、経時的な粒径と個数の変化を計測します。
Reactor Systems for Chemical Synthesis
手法を統一にすることで研究開発の生産性が向上します。
フーリエ変換赤外分光分析計 FTIR
化学反応のリアルタイムのモニタリングに対応するフーリエ変換赤外(FTIR)分光法

ソフトウエア

iC PVM particle characterization software
iC PVMソフトウェアにより、リアルタイムで粒子を視覚化し、粒子のサイズ、形状および濃度を理解しすることでプロセス情報を取得、共有します。
iC Data Center for OM/EM-1 Year
iCデータセンターは、Webベースの使いやすいインターフェイスで構成され、継続的なラボのモニタリングを実行できるため、組織内の知識管理を促進すると共に、研究者の生産性を向上する強力なツールです。

引用

Crystallization and Precipitation Citation List
Crystallization and precipitation citation list and publications

オンデマンドウェビナー

Traditional Offline Microscopy
このプレゼンテーションでは、粒子、結晶、液滴用のリアルタイム顕微鏡を使用して、従来の顕微鏡よりも短時間かつ低コストで高品質のプロセスを開発する方法について説明します。
Crystallization Image Analysis
このプレゼンテーションでは、晶析モニタリングでの画像解析の役割について説明します。
Liquid-Liquid Phase Separation
このプレゼンテーションでは、液液相分離(LLPS)またはオイリングアウトを避けるように、堅牢でスケーラブルな晶析プロセスの設計、開発の戦略について解説します。
Agglomeration & Crystallization Using Particle Measurement
このプレゼンテーションでは、in situの粒子ビジョンや各種測定ツールによるデータを、アグロメレーションと関連した粒子サイズや形状トレンドの測定にどのように使用できるかについて説明します。このようなトレンドは、溶媒の選定や攪拌速度の効果を調べ、最適な晶析プロセスパラメータを特定するために使われます...

V19ハードウェアのサポート

ParticleTrack / ParticleViewプローブのポジショニング(英語版)
ParticleTrackプローブは、FBRM技術(収束ビーム反射測定法)を用いて、プロセス中の粒子を原液濃度で、経時的に粒子径と個数の変化、粒子の構造を計測します。ParticleViewプローブはPVM技術を用いて、粒子と粒子のメカニズムをリアルタイムに画像化します。
ParticleTrack G400 / ParticleView V19のためのパージコントローラーの使用(英語版)
パージコントローラーは、ParticleTrack G400またはParticleView V19とともに使用するためにご購入いただけるオプショナルアクセサリです。パージはプロセス温度が稼働環境の露点を下回る場合に必要となります。パージの目的は、プロセス温度が下がるにつれてプローブ窓に形成される結露...
ParticleView V19ハードウェアマニュアル(英語版)
本マニュアルはPVM技術を用いたParticleView V19に関連する安全と品質に関する情報を掲載しています。ParticleView V19システムはプローブとインターフェイスユニットで構成されています。
ParticleView V19安全マニュアル(英語版)
本安全マニュアルは、PVM技術を用いたParticleView V19のハードウェアマニュアルを補完するものです。
ParticleTrack & ParticleView Onsite Training
Training and familiarization with ParticleTrack and ParticleView will ensure that all users can walk up to instruments and immediately bring value to...

ソフトウェアのサポート

iC PVMソフトウェアクイックスタートガイド(英語版)
本ガイドは新しいユーザー向けにiC PVMソフトウェアのグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)を紹介し、使用開始にあたりいくつかの選択肢を説明します。実験を作成して記録し、粒子システムとそのプロセスの動的特性を最も端的に示す画像を保存します。各実験は簡単にレポート、画像スライドショー、または...
iC PVMソフトウェアユーザーインストールガイド(英語版)
iC PVMのインストールはウィザードガイド式です。本ガイドは、インストール手順の詳細をiC PVMのアドミニストレータのための実装情報と併せて記載しています。ウィザードガイドはiC PVMソフトウェアとParticleViewの装置ドライバーをインストールするための各手順をガイドします。インストー...
ParticleTrack & ParticleView Onsite Training
Training and familiarization with ParticleTrack and ParticleView will ensure that all users can walk up to instruments and immediately bring value to...
iC PVM particle characterization software
iC PVMソフトウェアにより、リアルタイムで粒子を視覚化し、粒子のサイズ、形状および濃度を理解しすることでプロセス情報を取得、共有します。

サービス

サービスプログラムの紹介

設置から保守点検、機器校正、修理まで、お客様の測定機器のライフサイクル全般にわたって、サービスサポートをご提供します。

ダウンタイムの最小化
サポート ・ 修理
機器のパフォーマンス
メンテナンス・最適化
コンプライアンス
校正・品質管理
専門知識の提供
トレーニング・コンサルティング

ビデオ

 
 
 
 
 
 
 
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