半導体製造における水循環は、原水(1)が施設に運ばれ、前処理(2)、メイクアップ、研磨(3)段階を経ることから始まります。研磨後、UPWは製造工場(4-ファブ)に配布され、洗浄、エッチング、化学機械的平坦化(CMP)などの複数の工具や工程で使用されます。使用後、水はしばしば回収され(5)、UPWループ内でリサイクルされ、ボイラーやスクラバーなど他の用途(11)に利用されたり、汚染レベルに基づいて廃棄物として処理されたりします。
超純水中の有機汚染物質は、半導体ファブで一般的に監視されています。 UV/Vis分光光度測定 は、特定の波長での吸収を測定することで有機化合物を検出し、水が高純度基準を満たしていることを保証します。
pH および 導電率 の測定は、下水処理における降水工程の成功に影響する重要なパラメータです。重金属濃度を分析する技術の一つは、適切な波長で特定の金属イオン錯体の吸光度を測定することです。重金属の濃度を制御することで、廃水処理プロセスが効果的かつ環境規制に準拠していることを保証します。
半導体業界は水環境負荷の削減にますます注力しています。さまざまな地域の法律では、水の再利用と再生の高水準が義務 付けられており、多くの場合90%に達することもあります。フッ化水素酸の中和やアンモニアの安全な排出への変換など、廃棄物流の効果的な分離と処理はこのプロセスにおいて重要なステップです。
半導体製造における効果的な水循環管理は、UPWの最高品質を確保するだけでなく、環境責任の持続も重要です。先進的なセンサー技術を採用し、厳格な監視・保守プロトコルを遵守することで、半導体施設は水の使用を最適化し、規制基準の遵守を確保し、環境の持続可能性に貢献できます 。
メトラー・トレド・ソーントン は、pH、導電率、抵抗率、TOC、溶存酸素、微生物検出、シリカセンサーを含む包括的なセンサーおよび分析装置のポートフォリオを提供しています。これらの機器は最高品質のUPWを維持する上で不可欠です。 インテリジェントセンサー管理 (ISM)技術は予測診断、適応型校正、保守アラートを提供し、運用効率を高めダウンタイムを削減します。
オフラインの水分析は、オンラインモニタリングシステムの精度を正確に検証するのに役立ち、密度、 屈折率、 pH、導電率、イオンや溶存酸素(DO)、 滴定、 UV/Vis測定などのベンチトップ機器 に応用されています。
私たちは、あなたの仕事において正確さと信頼性が不可欠であることを理解しており、私たちのソリューションはあらゆる段階であなたをサポートするよう設計されています。私たちのチームは、機器をスムーズに稼働させ、最も重要なことに集中できるよう全力を尽くしています。画期的な成果を上げることです。半導体分野での努力を高め、イノベーションを推進するために共に取り組みましょう。
