硫化水素(H2S)ガス分析計GPro 500は、 ガス流中のH2Sの直接測定を目的に開発された、独自の波長可変半導体レーザー分析計です。 レーザー吸収分光法を採用し、シンプルな設置と正確なH2S測定を実現しています。
最高性能のH2S測定
難易度の高いアプリケーション向けのH2S分析計であるGPro 500は、触媒改質装置やコークス炉でのガス測定において信頼性の高い測定を実現します。
低メンテナンス・低ランニングコスト
このH2Sガス分析計は、in-situ測定を行い、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要としない設計になっているため、総所有コストを削減できます。
設置が簡単
GPro 500はアライメント調整が不要なので、装置の設置やアライメント調整に伴う負担が大幅に軽減されます。
ガス測定 | 硫化水素 |
測定下限値 | 20 ppm-v |
測定レンジ | 0-50% |
測定精度 | 読み取り値の2%または20 ppm (いずれか大きい方) |
直線性 | 1%以内 |
分解能 | 20 ppm-v |
ドリフト | 無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満) |
サンプリングレート | 1秒 |
応答時間 (T90) | N₂中のH₂Sが1%~0%で4秒未満 |
繰り返し性 | 読み取り値の±0.25%または100 ppm-v H₂S (いずれか大きい方) |
測定プロセス圧力範囲 | 0.8 bar - 3 bar (絶対圧力)/11.6 psi - 29 psi (絶対圧力) |
測定プロセス温度範囲 | 0-250 °C (23-482 °F)、オプション (プローブ設置用) <br>0-600 °C (0-1112 °F) 追加サーマルバリア付き |
有効光路長 | 50 mm - 10 m (アダプションに応じて異なる) |
プロセスアダプタ/センサ | センサ |
重要なアプリケーションニーズに対応 このH2Sガス分析計は、接触改質装置でのH2S制御やコークスガス測定などの測定・制御アプリケーションに最適です。 これらの波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計は、重要なアプリケーションにおいて、正確で信頼性の高い、迅速な測定を実現します。 | |
in-situですぐに測定 H2Sガス分析計GPro 500は、現場に設置されるため、サンプルを抽出して調整する必要がなく、迅速に結果を得ることができます。 これは、ガスの抽出と調整を必要とする技術に代わる、信頼性と費用対効果の高い技術です。 | |
難易度の高い設置を想定した設計 GPro 500は自由に構成できるため、硫化水素ガス分析計の測定システムをさまざまなプロセスアダプションと組み合わせて、幅広い設置要件に対応させることができます。 | |
長寿命を保証する予測診断機能 このH2Sガス分析計は、インテリジェントセンサマネジメント(ISM)技術を使用して、光路の清掃が必要な時期を通知するなど、分析計の状態を予測して診断します。 |