波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析装置
波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析装置

波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析装置

信頼性が高くメンテナンスが容易な、in-situ および抽出アプリケーションにおけるガス測定

 

メトラー・トレドの波長可変半導体レーザ(TDL)ガス分析装置

インターフェイス不要でドリフトの影響を受けない 波長可変半導体レーザー技術により、プロセス制御の向上とメンテナンス費用の低減が可能になります。

ただし、TDL ガス分析装置を使用して信頼性の高い測定を行うには、最小光路長やパージガス供給の利用、障害になる最大ダスト負荷など、...

インターフェイス不要でドリフトの影響を受けない 波長可変半導体レーザー技術により、プロセス制御の向上とメンテナンス費用の低減が可能になります。

ただし、TDL ガス分析装置を使用して信頼性の高い測定を行うには、最小光路長やパージガス供給の利用、障害になる最大ダスト負荷など、フレームワーク条件が必要になる場合があります。 

メトラー・トレドでは、これらの制約を認識したうえで、波長可変半導体レーザーガス分析の応用可能範囲を大幅に拡大する専用のプロセスインターフェイスソリューションを開発してきました。 

メトラー・トレドのコンパクトな波長可変半導体レーザー分析装置シリーズと独自のプロセス対応アダプタは、折りたたみ式の光路長方式に基づいて実現されたものであり、プロセス、安全、燃焼、蒸気回収のアプリケーションにおいて、プロセスの向上に不可欠な機器です。

  • 多機能によるプロセスのモニタリング
  • プロセスでの操作性
  • 革新的な性能

メトラー・トレド独自のプロセス適合オプションにより、以前は in-situ TDL 分析装置では不可能と考えられていたアプリケーションでの TDL ガス分析装置の使用が可能になりました。

  • TDL ガス分析装置による酸素測定: 直接塩素化およびオキシ塩素化、VCM 廃ガス回収、FCC ユニットなど。
  • TDL ガス分析装置 による一酸化炭素測定: パッケージボイラー、プロセスヒーター、電気集塵装置など
  • TDL ガス分析装置 による湿度測定: H₂ 改質ガス、タワードライヤ排気など。

 
測定が必要なポイントで酸素ガスを直接測定
アラインメント調整不要

高い性能、最小限のメンテナンス

製品と仕様

必要な場所でガスを測定

 
モデル/仕様
フィルター:
フィルター
すべてをクリア
 
ガス測定
有効光路長
測定下限値
詳細をご覧ください
ガス測定酸素
有効光路長50mm~10m、適合に応じて異なる
測定下限値100 ppm-v
測定レンジ0~100%
測定精度読み取り値の2%または100 ppm O₂のいずれか大きい方
直線性1%以内
分解能<0…01% vol O₂ (100ppm-v)
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂ 内のO₂ 21%>0%(2 秒未満)
繰り返し性読み取り値の± 0.25% または 0.05% O₂(いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~5 bar(abs)/11.6 psi ~72.52psi(abs)
測定プロセス温度範囲 0~250°C およびセミ、オプション(プローブ設置の場合)
0~600 °C 追加サーマルバリア付き
説明取り扱いが極めて簡単でメンテナンスがほとんど不要
詳細をご覧ください
ガス測定塩化水素
有効光路長50mm ~ 10m、用途による
測定下限値0.6 ppm-v
測定レンジ標準条件下で0~1%
測定精度2% の読み取り値または 0.6 ppm、いずれか大きい方
直線性1%以内
分解能0.6 ppm-v
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂内HCL 1% ~ 0%(4 秒未満)
繰り返し性読み取り値の ± 0.25 % また は3 ppm-v HClのいずれか大きい方
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~ 3 bar (abs)/11.6 psi ~ 43 psi (abs)
測定プロセス温度範囲 0-250 °C (23-482 °F); オプション(プローブ設置用)
0 ~ + 600 °C (追加サーマルバリア付き)
説明ガス流内のHClガス分析装置。 様々なプロセス適合オプションを組み合わせることで、設置要件に対応します。
詳細をご覧ください
ガス測定硫化水素
有効光路長50mm ~10m、適合に応じて異なる
測定下限値20 ppm-v
測定レンジ0~50%
測定精度2% の読み取り値または 20 ppm、いずれか大きい方
直線性1%以内
分解能20 ppm-v
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂ 内のH₂S 1%~0%(4 秒未満)
繰り返し性読み取り値の±0.25% または 100 ppm-v H₂S(いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~3 bar (abs)/11.6 psi~29 psi (abs)
測定プロセス温度範囲 0~250 °C、 オプション(プローブ設置用)
0~600 °C 追加サーマルバリア付き
説明取り扱いが極めて簡単でメンテナンスがほとんど不要
詳細をご覧ください
ガス測定一酸化炭素
有効光路長50mm ~10m、適合に応じて異なる
測定下限値1 ppm-v
測定レンジ0 ~120,000 ppm(0 ~2%)
測定精度読み取り値の2%または1 ppmのいずれか大きい方
直線性1%以内
分解能1 ppm-v
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂ 内のCO 300ppm-v ~ 0%(4 秒未満)
繰り返し性読み取り値の ±0.25% または5 ppm-v CO(いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~2 bar(abs)/ 11.6 psi ~29 psi(abs)
測定プロセス温度範囲 0~250 °C、 オプション(プローブ設置用)
0~600 °C 追加サーマルバリア付き
説明取り扱いが極めて簡単でメンテナンスがほとんど不要
詳細をご覧ください
ガス測定微量水分 (水分 / 水蒸気)
有効光路長50mm ~10m、適合に応じて異なる
測定下限値5 ppm-v
測定レンジ0 ~200,000 ppm(0 ~2%)
測定精度読み取り値の2%または10 ppmのいずれか大きい方
直線性1%以内
分解能5 ppm-v
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂ 内のH₂O 1%~0%(4 秒未満)
繰り返し性読み取り値の±0.25% または 50 ppm-v H20(いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~3 bar (abs)/11.6 psi~29 psi (abs)
測定プロセス温度範囲 0~250 °C、 オプション(プローブ設置用)
0~600 °C 追加サーマルバリア付き
説明取り扱いが極めて簡単でメンテナンスがほとんど不要
詳細をご覧ください
ガス測定一酸化炭素(CO濃度)
有効光路長50mm ~10m、適合に応じて異なる
測定下限値1500 ppm-v
測定レンジ0~100%
測定精度読み取り値の2% または 1500 ppmで、いずれか大きい方
直線性1%以内
分解能1500 ppm-v
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂ 内のCO 300ppm-v ~ 0%(4 秒未満)
繰り返し性読み取り値の± 0.25% または 0.75-v CO(いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~1.5 bar (abs)/ 11.6 psi ~21.7psi (abs)
測定プロセス温度範囲 0~250 °C、 オプション(プローブ設置用)0~600 °C(0~1112 °F)追加サーマルバリア付き
説明取り扱いが極めて簡単でメンテナンスがほとんど不要
詳細をご覧ください
ガス測定 二酸化炭素(CO₂濃度)
有効光路長50mm ~10m、適合に応じて異なる
測定下限値1000 ppm-v
測定レンジ0~100%
測定精度2% の読取値または 1000 ppm、いずれか大きい方
直線性1%以内
分解能1000 ppm-v
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N2内のCO₂ 300 ppm-v ~ 0 %(4 秒未満)
繰り返し性読み取り値の±0.25% または 0.75-v CO2(いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~2 bar (abs)/11.6 psi~29 psi (abs)
測定プロセス温度範囲 0~250 °C、 オプション(プローブ設置用)
0~600 °C 追加サーマルバリア付き
説明取り扱いが極めて簡単でメンテナンスがほとんど不要
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ガス測定二酸化炭素 (CO₂%) & 一酸化炭素 (CO%)
有効光路長50mm ~ 10m、用途による
測定下限値1000 ppm-v (CO2)
1500 ppm-v (CO)
測定レンジ0-100%
測定精度読み取り値の2%または1000 ppmのいずれか大きい方
直線性1%以内
分解能1000 ppm-v
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂内CO₂ 1% ~ 0%(4 秒未満)
繰り返し性読み取り値の± 0.25 %、または5000 ppm-v CO2もしくはCO(いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~ 2 bar(abs)/ 11.6 psi ~ 29.psi(abs)
測定プロセス温度範囲 0-250 °C (23-482 °F); オプション(プローブ設置用)
0 ~ + 600 °C (追加サーマルバリア付き)
説明高い簡便性でメンテナンスはほとんど必要なし
詳細をご覧ください
ガス測定アンモニウム(NH₃)
有効光路長50mm ~ 10m、用途による
測定下限値1 ppm-v
測定レンジ0 – 1%
測定精度読み取り値の2%または1 ppmのいずれか大きい方
直線性1%以内
分解能1 ppm
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N₂内NH₃は、4秒未満で1% ~ 0%
繰り返し性読み取り値の ± 0.25 % また は5 ppm-v NH₃のいずれか大きい方
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~ 3 bar (abs)/11.6 psi ~ 43 psi (abs)
測定プロセス温度範囲 0-250 °C (23-482 °F); オプション(プローブ設置用)
0 ~ + 600 °C (追加サーマルバリア付き)
説明高い簡便性でメンテナンスはほとんど必要なし
詳細をご覧ください
ガス測定メタン(CH4)
有効光路長50mm ~ 10m、用途による
測定下限値1 ppm-v
測定レンジ0 – 1%
測定精度読み取り値の2%または1 ppmのいずれか大きい方
直線性1%以内
分解能1 ppm
ドリフト無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート1秒
応答時間 (T90)N2内CH4は、4秒未満で1%~0%
繰り返し性読み取り値の ± 0.25 % また は5 ppm-v CH4のいずれか大きい方
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar ~ 3 bar (abs)/11.6 psi ~ 43 psi (abs)
測定プロセス温度範囲 0-250 °C (23-482 °F); オプション(プローブ設置用)
0 ~ + 600 °C (追加サーマルバリア付き)
説明高い簡便性でメンテナンスはほとんど必要なし
詳細をご覧ください
ガス測定酸素、CO₂、CO、HCl、H₂S、微量水分、メタン、アンモニアガス測定に対応
有効光路長100、200、400mm(3.94、7.87、15.75インチ)
測定下限値選択された分析装置に基づく
説明GPro 500は、様々なプロセス適合オプションを組み合わせることで、標準測定位置への設置も可能になります。
詳細をご覧ください
ガス測定酸素、CO₂、CO、HCl、H₂S、微量水分、メタン、アンモニアガス測定に対応
有効光路長2-6 メートル
測定下限値選択された分析装置に基づく
説明GPro 500は、様々なプロセス適合オプションを組み合わせることで、大口径パイプへの設置も可能になります。
詳細をご覧ください
ガス測定酸素、CO₂、CO、HCl、H₂S、微量水分、メタン、アンモニアガス測定に対応
有効光路長200 mm、400 mm、800 mm、1 m、8 m (7.87"、15.75"、31.50"、39.37"、315")
測定下限値選択された分析装置に基づく
説明レトロフィット形GPro 500は、コンディショニングやサンプリングが必要なポイントに設置することができます。
詳細をご覧ください
ガス測定酸素、CO₂、CO、HCl、H₂S、微量水分、メタン、アンモニアガス測定に対応
有効光路長200、400、800 mm (7.87"、15.75"、31.5")
測定下限値選択された分析装置に基づく
説明GPro 500は、様々なプロセス適合オプションを組み合わせることで、より微粒子成分が多いガス流にも設置することができます。
詳細をご覧ください
ガス測定酸素、CO₂、CO、HCl、H₂S、微量水分、メタン、アンモニアガス測定に対応
有効光路長200、400、800 mm (7.87"、15.75"、31.50")
測定下限値選択された分析装置に基づく
説明GPro 500は、様々なプロセス適合オプションを組み合わせることで、より低速または流れのないクリーンなガス流での測定にも対応します。
詳細をご覧ください
ガス測定酸素、CO₂、CO、HCl、H₂S、微量水分、メタン、アンモニアガス測定に対応
有効光路長104 mm、110 mm、154 mm、164 mm、214 mm (4.09"、4.33"、6.06"、6.46"、8.43")
測定下限値選択された分析装置に基づく
説明このプロセス適合オプションは、GPro 500を小口径パイプに設置するために使用します。
比較

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サービス

設置当初から最大のメリットを提供

ダウンタイムの最小化
サポート ・ 修理
機器のパフォーマンス
メンテナンス・最適化
専門知識の提供
トレーニング・コンサルティング
 
 
 
 
 
 
 
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