塩化水素ガス分析計: GPro 500

塩化水素ガス分析計: GPro 500

HCl測定用波長可変半導体レーザガス分析計

塩化水素(HCl)ガス分析計GPro 500は、難易度の高いアプリケーションでの高性能測定を目的に開発された、波長可変半導体レーザー分析計です。 レーザー吸収分光法を採用し、シンプルな設置と正確なHCl測定を実現しています。

最高性能のHCl測定
難易度の高いアプリケーション向けのHCl分析計であるGPro 500は、スクラバータワー、煙道ガス、VCMアプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。

低メンテナンス・低ランニングコスト
このHClガス分析計は、in-situ測定を行い、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要としない設計になっているため、総所有コストを削減できます。

設置が簡単
GPro 500はアライメント調整が不要なので、装置の設置やアライメント調整に伴う負担が大幅に軽減されます。

塩化水素(HCl)GPro 500
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仕様 - 塩化水素ガス分析計: GPro 500
ガス測定 塩化水素
測定下限値 0.6 ppm-v
測定レンジ 標準条件下で0-1%
測定精度 読み取り値の2%または0.6 ppm (いずれか大きい方)
直線性 1%以内
分解能 0.6 ppm-v
ドリフト 無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート 1秒
応答時間 (T90) N₂中のHCLが1%~0%で4秒未満
繰り返し性 読み取り値の±0.25%または3 ppm-v HCl (いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar - 3 bar (絶対圧力)/11.6 psi - 43 psi (絶対圧力)
測定プロセス温度範囲 0-250 °C (23-482 °F)、オプション (プローブ設置用) <br>0-600 °C (0-1112 °F) 追加サーマルバリア付き
有効光路長 50 mm - 10 m (アダプションに応じて異なる)
プロセスアダプタ/センサ センサ

機能と利点


重要なアプリケーションニーズに対応
このHClガス分析計は、スタックやスクラバーでのHClモニタリングなどのアプリケーションに最適です。 環境および規制のニーズを満たすために、これらの波長可変半導体レーザガス分析計は正確で信頼性が高く高速な測定を提供します。
Meets Critical Application Needs
in-situですぐに測定
HClガス分析計GPro 500は、現場に設置されるため、サンプルを抽出して調整する必要がなく、迅速に結果を得ることができます。 これは、ガスの抽出と調整を必要とする技術に代わる、信頼性と費用対効果の高い技術です。
Immediate, In Situ Measurement
難易度の高い設置を想定した設計
GPro 500は自由に構成できるため、塩化水素ガス分析計の測定システムをさまざまなプロセスアダプションと組み合わせて、幅広い設置要件に対応させることができます。
Designed for Challenging Installations
ダウンタイムを削減する予測診断機能
このHClガス分析計は、インテリジェントセンサマネジメント(ISM)技術を使用して、光路の清掃が必要な時期を通知するなど、分析計の状態を予測して診断します。
Predictive Diagnostics Reduce Downtime

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