GPro 500アンモニア/水分・ガス分析計は、スタック測定やアンモニアスリップアプリケーションにおけるアンモニアの直接測定を目的に開発された独自の波長可変半導体レーザー（TDL）ガス分析計です。レーザー吸収分光法を採用し、低メンテナンスで正確な測定を実現しています。
最高性能のアンモニア測定
難易度の高いアプリケーション向けのNH3 ・H2O 分析計であるGPro 500は、アンモニアスリップやスタック測定アプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。
低メンテナンス・低ランニングコスト
このアンモニアガス分析計は、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要とすることなくin-situ測定を行うことができるため、総所有コストを削減できます。
容易な設置
アライメント調整を必要としないGPro 500は、TDL装置の設置やアライメント調整に伴う負担を大幅に軽減します。
| ガス測定 | アンモニアと水（NH₃ と H₂O） |
| 測定下限値 | 0.4 ppm-v (NH₃)¹⁾、1 ppm-v (NH₃ @ 400°1C、H₂O濃度範囲40%以下) 600 ppm (H₂O) |
| 測定レンジ | 0～1%（NH₃）、 0～40% (H₂O) |
| 測定精度 | 測定値の2%または±0.4 ppmのどちらか大きい方 (NH₃)¹⁾、 ±1 ppm-v (NH₃ @ 400°C、H₂O濃度範囲40%以下) 測定値の5%または±600 ppmのどちらか大きい方 (H₂O) |
| 直線性 | 1%以内 |
| 分解能 | 0.1 ppm-v (NH₃)、 1000 ppm (H₂O) |
| ドリフト | 無視できる（メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満） |
| サンプリングレート | 2秒 |
| 応答時間 (T90) | N₂中のNH₃ が1%～0%で10秒未満 |
| 繰り返し性 | 測定値の2%または0.4 ppmのいずれか大きい方 (NH₃)、 測定値の5% または600 ppmのいずれか大きい方 (H₂O) |
| 測定プロセス圧力範囲 | 0.8 bar～3 bar / 11.6 psi～43 psi |
| 測定プロセス温度範囲 | 0～250 °C 標準、 0～600 °C、追加のサーマルバリア付き 0～150 °C PFAまたはPTFEフィルタ付き |
| 有効光路長 | 50 mm～800 mm、適合オプションにより異なる |
| プロセスアダプタ/センサ | センサ |
