アンモニア濃度測定用波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計: GPro 500

NH₃測定用波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計

アンモニア(NH3)ガス分析計GPro 500は、スタック測定やアンモニアスリップアプリケーションでのアンモニアの直接測定を目的に開発された、波長可変半導体レーザー分析計です。 レーザー吸収分光法を採用し、低メンテナンスで正確な測定を実現しています。

最高性能のアンモニア測定
難易度の高いアプリケーション向けのNH3分析計であるGPro 500は、アンモニアスリップやスタック測定アプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。

低メンテナンス・低ランニングコスト
このアンモニアガス分析計は、in-situ測定を行い、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要としない設計になっているため、総所有コストを削減できます。

設置が簡単
GPro 500はアライメント調整が不要なので、装置の設置やアライメント調整に伴う負担が大幅に軽減されます。

仕様

仕様 - アンモニア濃度測定用波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計: GPro 500

ガス測定 アンモニウム(NH₃)
測定下限値 1 ppm-v
測定レンジ 0 – 1%
測定精度 読み取り値の2%または1 ppm (いずれか大きい方)
直線性 1%以内
分解能 1 ppm
ドリフト 無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート 1秒
応答時間 (T90) N₂中のNH₃が1%~0%で4秒未満
繰り返し性 読み取り値の±0.25%または5 ppm-v NH₃ (いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar - 3 bar (絶対圧力)/11.6 psi - 43 psi (絶対圧力)
測定プロセス温度範囲 0-250 °C (23-482 °F)、オプション (プローブ設置用) <br>0-600 °C (0-1112 °F) 追加サーマルバリア付き
有効光路長 50 mm - 10 m (アダプションに応じて異なる)
プロセスアダプタ/センサ センサ

ドキュメント

パンフレット

ガス分析カタログ(日本語版)
製造現場では、安全性、品質、生産性は、重要な要素です。そのため、私たちは製品開発の際に、「顧客のビジネスに、私たちの製品がどのように寄与できるのか?取扱いやメンテナンスがどれだけ影響を与えるのか?」という一メーカーとしての製品開発だけではなく、ビジネス視点も踏まえて分析計やセンサの研究開発を行ってい...

データシート

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White Papers

プロセスガス分析装置 – 5つの問題点(日本語版)
このホワイトペーパーは、プロセスガス分析装置に関する5つの課題と、波長可変半導体レーザー(TDL)分光センサを採用することでどのように回避することが可能になるのかについて解説しています。

Application Notes

プロセス分析機器
pH/ORP(酸化還元)電極、酸素・二酸化炭素・オゾンセンサ、微生物測定装置、TOC・ガス・ナトリウム・シリカおよび塩化物/硫酸塩分析装置、変換器...

ケーススタディ

ガス分析装置 – ガスセンサ
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アクセサリー

消耗品

ソフトウェア

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