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微量水分分析計： GPro 500

H₂O測定用の波長可変半導体レーザー分析計

微量水分(H2O)分析計GPro 500は、ガス流中のH2Oの直接測定を目的に開発された、波長可変半導体レーザー分析計です。 レーザー吸収分光法を採用し、シンプルな設置と正確な水分検出を実現しています。

最高性能の水分測定
難易度の高いアプリケーション向けの水分分析計であるGPro 500は、塩素ガスやEDC貯蔵などのアプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。

低メンテナンス・低ランニングコスト
このH2Oガス分析計は、in-situ測定を行い、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要としない設計になっているため、総所有コストを削減できます。

設置が簡単
GPro 500はアライメント調整が不要なので、装置の設置やアライメント調整に伴う負担が大幅に軽減されます。

微量水分分析計： GPro 500
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仕様 - 微量水分分析計： GPro 500
ガス測定 微量水分(水分/水蒸気)
測定下限値 5 ppm-v、1 ppm-v
測定レンジ 0-200,000 ppm (0-2%)、0-100,000 ppm (0-1%)
測定精度 読み取り値の2%または10 ppm (いずれか大きい方)
直線性 1%以内
分解能 5 ppm-v、1 ppm-v
ドリフト 無視できる（メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満）
サンプリングレート 1秒
応答時間 (T90) N₂中のH₂Oが1%～0%で4秒未満
繰り返し性 読み取り値の±0.25%または50 ppm-v H20 (いずれか大きい方)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar - 3 bar (絶対圧力)/11.6 psi - 29 psi (絶対圧力)、0.8 bar - 5 bar (絶対圧力)/11.6 psi – 72.5 psi (絶対圧力)
測定プロセス温度範囲 0-250 °C (23-482 °F)、オプション (プローブ設置用) <br>0-600 °C (0-1112 °F) 追加サーマルバリア付き
有効光路長 50 mm - 10 m (アダプションに応じて異なる)
プロセスアダプタ/センサ センサ

機能と利点

腐食から資産を守る
微量水分分析計GPro 500は、塩素系コンプレッサーの腐食防止に最適です。 微量水分(ppmレベル)を検知することにより、測定対象ガス内の腐食性水分を制御できます。 この波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計は、迅速な微量水分測定を実現します。		Protect Your Assets from Corrosion
in-situですぐに測定
このH2O分析計は、現場に設置されるため、サンプルを抽出して調整する必要がなく、迅速に結果を得ることができます。 これは、ガス流の抽出と調整を必要とする技術に代わる、信頼性と費用対効果の高い技術です。		Immediate, In Situ Measurement
難易度の高い設置を想定した設計
GPro 500は自由に構成できるため、微量水分測定装置の測定システムをさまざまなプロセスアダプションと組み合わせて、幅広い設置要件や配管サイズに対応させることができます。		Designed for Challenging Installations
長寿命を保証する予測診断機能
この微量水分分析計は、インテリジェントセンサマネジメント(ISM)技術を使用して、光路の清掃が必要な時期を通知するなど、分析計の状態を予測して診断します。		Predictive Diagnostics Ensure Long Life

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MT-TDL-Suite-V6_8_6_w_RT-2022-06-09 (zip - 200 MB)

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