icon

Kémiai mechanikai síkozás (CMP)

A CMP-ben használt csiszolószuszpenzió olyan vegyi anyagokat tartalmaz, amelyek teljesítménye és szelektivitása nagymértékben függ a pH-értéktől. A pH-érték pontos szabályozása elengedhetetlen az optimális csiszolási sebesség biztosításához, a szilíciumlapok károsodásának megelőzéséhez, valamint az egyenletes felületi síkosság eléréséhez.

Icon Photolithography

Fotoreziszt feldolgozás

A fejlesztő- és lemosóoldatoknak meghatározott pH-értékre van szükségük. A nem megfelelő pH-értékek a fotoreziszt-minta rossz kifejlődéséhez vagy a lemosás hiányos elvégzéséhez vezethetnek, ami a mintaátvitel hibáit eredményezheti.

Szeretnék...
Need assistance?
Our team is here to achieve your goals. Speak with our experts.