網路研討會:控制品質與成本

如何經由 Good Weighing Practice™,為半導體生產帶來助益

化學機械平坦化 (CMP) 是半導體製造的關鍵步驟。研磨液製程的稱重結果是否精確,會影響晶圓的品質,精確時有助於縮小電晶體尺寸,開發出新一代晶片。

我們在這場網路隨選研討會中,說明了晶圓生產達到高稱重精確度的重要性,並強調製造商如何從風險型方法中獲益,挑選到最符合其規格的稱重解決方案。

您將學到:

  • 晶片製造商如何利用 GWP 方法改善研磨液製程
  • GWP 如何協助挑選到符合實際目的之稱重解決方案
  • 適當的設備和服務,能如何將服務成本降到最低  

案例研究:使用精密秤進行 CMP 研磨液生產