环境影响与可持续性
半导体行业越来越注重减少水足迹。各地区的立法要求 高水平的水资源再利用和复垦，通常高达90%。有效的废液分流和处理，如中和氢氟酸和将氨转化为安全排放，是这一过程的关键步骤。
- 溶解氧（DO） 对于防止污染至关重要。Thornton的光学DO传感器使用寿命长且维护需求极低，非常适合保持低溶解氧水平。
- 在线 微生物 监测 提供超纯水中微生物污染的连续测量。这使得水处理工艺能够确保UPW符合微电子制造中严格的纯度标准。
优化半导体制造中的水循环管理
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半导体制造中的水循环
半导体制造中的水循环始于将原水（1）送入工厂，经过预处理（2）、补水和抛光（3）阶段。抛光完成后，UPW会被分发到制造车间（4-制造车间），在那里用于多种制造设备和工艺，如清洗、蚀刻和化学机械平坦（CMP）。使用后，水通常会被回收（5）用于UPW循环回收，或用于锅炉和尾气处理（11），或根据污染程度作为废弃物处理（6）。
水循环管理中的关键在线参数
其他水质离线参数
超纯水中的有机污染物通常在半导体晶圆厂中进行监测。 紫外/可见光谱光度法 可以通过测量有机化合物在特定波长下的吸附率来检测，确保水达到高纯度标准。
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