案例分享

改善半導體生產中的溶解氧測量

案例分享

快速響應的光學電極的案例研究

新的溶氧測量技術
新的溶氧測量技術

亞洲其中之一最大的半導體生產廠商正在努力解決其溶解氧測量問題。 他們使用的是昂貴的系統,維護後需要三到四天的時間,才能充分穩定地利用溶氧讀數。

鑄造廠對 METTLER TOLEDO Thornton 的光學溶氧感測器和 M800 傳送器進行了評估,以作為其超純水系統中溶解氧測量的解決方案。

溶氧測量已成為該半導體廠設施的優先需求。 他們的期望很高,包括響應速度非常快,檢測水準低和維護減少。 METTLER TOLEDO 的解決方案不僅滿足而且超出了他們的期望,其中包括 光學溶氧感測器 M800 發射器 r 。 採用光學技術的溶氧感測器不需要極化,因此測量系統的可用性非常高。 M800 傳送器具有多通道、多參數功能,可將溶氧測量與其他參數的測量相互搭配。

下載案例研究以閱讀完整的詳細資訊,包括以下主題:

  • 為什麼要測量半導體廠中的溶氧度?
  • 精確與反應優勢
  • 光學測量可長期節省成本
     

超純水 (UPW) 除氣後可測量溶氧,以確認從水中去除的氧氣量。 減少溶解氧能維持水中的低電導率,這對後續處理步驟相當重要,特別是連續電子式去離子裝置。 在水處理期間,可將使用點(POU)水中的溶氧濃度維持在低於5 ppb,以防止閘極氧化厚度失控。 在 POU 的溶氧越高,就會導致氧化水出現非預期的蝕刻作用,進而造成裝置故障和產量下降 – 使成本大幅提升。