

超純水 (UPW) 是半導體晶圓清洗與生產中最強效的溶劑,隨著電路線寬不斷縮小,對於 UPW 系統持續且精確測量的需求呈倍數成長。TOC 的規範標準在過去幾十年中已從低 ppb(十億分之一)等級進步到 ppt(兆分之一) 的檢測水平。
透過監測 TOC,純水系統能即時驗證各項純化程序(如活性碳、RO 逆滲透、離子交換)是否有效將有機物降至安全範圍內,半導體廠能有效診斷有機物穿透的來源(如膜失效或樹脂劣化),從而降低風險並提高產量。防止微量污染損害昂貴的晶圓更甚至是製程設備。
在製程水質分析中,TOC(總有機碳) 的波動是衡量水質純淨度與製程穩定性的關鍵指標。為了協助您更高效地管理水質系統,我們彙整了這份全方位的常見問題集。


本次 TOC 常見問題集將「由淺入深、理論與實務並行」,帶領您全面掌握 TOC 分析儀:
