封裝銀膠與軟性矽膠

導電銀膠、平衡膜與軟性矽膠等材料必須在極端熱循環下保持結構穩定。玻璃轉移溫度(Tg)與熱膨脹係數(CTE)是 R&D 評估材料應力緩衝與耐熱性的核心指標。 然而,本土高分子特化大廠在研發過程中遇到了極棘手的測量難題:

      探頭壓力造成的機械壓陷

      探頭壓力造成的機械壓陷

      軟性矽膠與高分子膠材極為柔軟,傳統 TMA 探頭局部壓力過大,會直接壓陷或穿透樣品,使位移數據混入「機械變形」,導致 CTE 被嚴重低估。

      殘留應力與熱歷史掩蓋真實特性

      殘留應力與熱歷史掩蓋真實特性

      膠材在製樣或固化過程中所殘留的內部應力,會在「第一次升溫測試」時釋放,產生異常的尺寸形變,研發人員常誤將應力釋放訊號判讀為 Tg,導致不同配方的比對完全失去基準。

      「擺脫『熱歷史』與『探頭壓陷』的數據誤導!協助本土封裝膠材大廠鎖定材料最真實的熱特性。」

      平衡膜

      隨著 FOPLP 與 2.5D/3D 異質整合技術持續發展,晶圓與載板在高溫製程下產生的翹曲已成為影響良率的關鍵課題。抗翹曲功能性薄膜能透過熱膨脹與機械特性的調控,降低製程中的應力累積與翹曲風險。然而,先進封裝材料供應商在研發過程中遇到了極棘手的測量難題:

      缺少完整黏彈性與應力鬆弛資訊

      缺少完整黏彈性與應力鬆弛資訊

      材料開發不能只確認 Tg 或單一熱性質。CTE 與 Tg 僅反映尺寸變化,若缺少儲能模數(E')與應力鬆弛等黏彈性數據,開發人員將難以判斷材料在高溫製程下是否具備足夠的支撐與應力調節能力。

      極薄薄膜夾持困難與熱歷史干擾

      極薄薄膜夾持困難與熱歷史干擾

      抗翹曲薄膜厚度極薄,傳統 DMA 在高溫量測與樣品夾持上面臨挑戰,難以取得高溫模數與方向性(MD/TD)差異;同時,樣品既有的熱歷史與殘留應力也會干擾首次升溫數據,增加配方比對的難度。

      「擺脫『翹曲失控』與『薄膜量測』的技術瓶頸!協助先進封裝材料廠鎖定真實高溫熱機械特性。」

      乾膜光阻 (Dry-film)

      乾膜光阻(Dry-film Photoresist)是 IC 載板與先進封裝微細線路轉移的靈魂材料,其配方包含感光樹脂、單體、引發劑以及多種高價值的微量特化添加劑。配料時的精準度往往需達毫克(mg)級別,稍有不慎即可能導致整批光阻感光度偏差或塗佈不均。 傳統配料現場過往面臨兩大瓶頸:

      人為操作風險

      人為操作風險

      仰賴人工秤量與紙本記錄,容易因人為疲勞產生配比誤差或抄錄失誤。

      Data Integrity(數據完整性)合規壓力

      Data Integrity(數據完整性)合規壓力

      國際晶圓代工與封測巨頭對供應鏈的品管稽核愈發嚴格,紙本紀錄無法提供完整且不可篡改的 Audit Trail(審計追蹤),成為本土材料廠打入國際供應鏈的最大阻礙。

      「過去靠經驗與紙本,現在靠數位化 Sop。協助台灣乾膜光阻領航者,零缺失通過國際半導體大廠的嚴格供應鏈稽核。」

      低溫固化 PI 光阻

      在先進封裝重佈線層(RDL)製程中,低溫固化聚醯亞胺(Polyimide, PI)與感光型 PI(PSPI)因具備優秀的介電特性與低熱預算優勢,成為市場開發焦點。 然而,材料供應商在開發新一代 PI 光阻時面臨嚴峻挑戰:

      微量水分影響未知且難以捕捉

      微量水分影響未知且難以捕捉

      極微量的水分(ppm 級)可能影響 PI 光阻的固化程度、介電常數與薄膜附著力。但在研發初期,研發團隊缺乏統一且高精度的微量水分測試條件。

      測試條件不一導致數據無法比對

      測試條件不一導致數據無法比對

      過往不同實驗員、不同測試時間點量到的水分數據波動劇烈,無法與後續的材料性能(如附著力、耐熱性)進行交叉比對,難以建立有效的水分管制規格。

      「在微米級 RDL 介電層開發中,連百萬分之一 (ppm) 的水分都是關鍵。協助電子化學品大廠建立可追溯的水分關聯數據庫。」

      精準測量助力半導體製程優化:梅特勒托利多解決方案深度剖析

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      分享客戶在前端製程至後端封裝階段所面臨的生產挑戰,透過精準的材料控制、製程管理與數據分析,提升生產效能、優化流程並確保卓越品質。深入了解相關技術如何落地實踐,並從中獲得可參考的製程優化方向。

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