連続フローケミストリー分析装置 ReactIR - 概要 - メトラー・トレド

連続フローケミストリー分析装置 ReactIR

連続フローケミストリーのリアルタイム分析

バッチ反応に無い優位性を持ち、生産性、製品品質を向上させた新しい反応プロセスを開発するために、連続フローケミストリーを検討する研究者は増加する一方です。HPLCなどのオフライン分析による連続フローケミストリーの反応条件最適化検討は、必要な情報がリアルタイムに得られず、困難をともなう場合が多くあります。連続フローケミストリーのin situ リアルタイムモニタリングを行うことを目的とした専用のFTIRであるReactIRは、反応のスクリーニングや最適化を行う際の短時間化や時間や高価な原料を節約することが可能です。

連続フローケミストリーにおけるReactIRの効果的な使用例を以下に示します。

  • オキサゾール生成
  • フッ素化反応
  • 多段階フロー反応における最適な試薬添加量の精密制御(ポンプのfeedback制御)
  • 連続プロセスにおけるアルケンのオゾン分解の分析
連続フローケミストリーのためのFlowIR

仕様 - 連続フローケミストリー分析装置 ReactIR
対象 ラボスケール
ソフトウェア iC IR
検出器 LN2 MCT; SE MCT
光学レンジ(本体) TE MCT : 4000 – 800 cm-1 LN2 MCT : 4000 – 650 cm-1
パージ パージ不要
本体寸法(幅x高) 180 mm x 274 mm
寸法 249 mm
重量 9 kg
データ通信 USB 2.0
分解能 4 cm -1  (通常)
使用環境(温度) 19 °C – 25 °C
光学レンジ(プローブに依存) 2500-650 cm-1 最大 (ファイバープローブ)
接液部の材質 Alloy C-22; ダイアモンドまたはシリコン; 金
圧力上限(最大) 69bar (6.3 & 9.5mm ファイバープローブ); 107bar (センチネル)
温度上限(最大) 180°C (ファイバープローブ); 200°C (センチネル)
EMC 指令 2004/109/EC、低電圧指令 2006/95/IEC
pH範囲(プローブに依存) 1-14 (ダイアモンド); 1-9 (シリコン)
品番 14000003

関連文書

フローケミストリーの関連文書

データシート

ReactIR サンプリング技術(日本語版)
ReactIR in situ サンプリング技術は、幅広いバッチおよび連続反応条件での利便性を実現します。
iC IR ソフトウェア(日本語版)
ReactIRによるスペクトルデータを用い、化学プロセスと重要な各パラメータ(温度、圧力など)の関係性に関する知見が得られ、反応の理解をより深める。
ReactIR IPA(機器性能保証)モジュール(英語版)
ReactIR 波数の精度を検証して、NIST(米国標準技術局)によって認証されているポリスチレン基準に校正して、データ精度を維持します。

アプリケーション

有機合成
有機合成に携わっている研究者は日々、革新的な化学反応やプロセスの研究開発を行っています。

ソフトウエア

iC IRソフトウェア
スペクトルデータによって、反応開始、終点、メカニズム、反応経路、反応速度など、化学的な理解が深まり、プロセスに関するより多くの情報が得られます。

関連製品とソリューション

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アクセサリ

連続フローケミストリー用ReactIRのアクセサリ

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