CO含量(%)範圍氣體分析儀: GPro 500

適用於CO含量(%)測量的可調諧二極體雷射

GPro 500一氧化碳百分比含量氣體分析儀是一款獨特的可調諧二極體雷射光譜分析儀,用於測量高溫氣流中CO。 其採用摺疊路徑雷射光束設計,安裝簡單,可測量CO百分比含量。

卓越的CO含量(%)測量效能
GPro 500 CO含量(%)分析儀適用於具有挑戰性的應用,可在FCC設備、PTA、蒸氣重組以及氫氣生產應用中提供可靠的測量結果。

低維護成本和運作成本
此款CO含量(%)分析儀設計用於在高溫下進行原位測量,無需調節系統,因而能夠降低總擁有成本。

安裝簡便
GPro 500是一款無需對光調整的TDL氣體分析儀,大幅減少了TDL安裝和對光操作中經常會遇到的挑戰。

CO含量(%)範圍氣體分析儀: GPro 500
來電詢價
詳細說明 - CO含量(%)範圍氣體分析儀: GPro 500
氣體測量 一氧化碳 (CO%)
偵測下限 1500 ppm-v
測量範圍 0-100%
精確性 讀數的2%或1500 ppm,以較高者為準
線性 優於1%
解析度 1500 ppm-v
位移 可忽略不計(維護間隔之間測量範圍的2%以下)
採樣率 1秒鐘
回應時間 (T90) N₂中的CO含量從300 ppm-v降至0%時,響應時間小於4秒
重複性 讀數的±0.25%或0.75-v CO(以較高者為準)
製程壓力範圍 0.8 bar - 1.5 bar (abs)/11.6 psi - 21.7 psi (abs)
製程溫度範圍 0-250 °C (23-482 °F);可選(適用於電極安裝)0-600 °C (0-1112 °F),附帶隔熱層
有效光學路徑 50 mm - 10 m,視配接器而定
流程配接器或感測器 感測器
功能和價值

滿足關鍵應用需求
這款 CO含量(%)分析儀特別適用於FCC設備、苯乙烯、合成氣和氨氣製造中的測量和控制應用。 這些TDL氣體分析儀能夠在關鍵應用中提供精確、可靠而快速的測量,並與SIL 2相容。
Flexible and Consistent Platform
即時、原位測量
GPro 500 CO(含量%)氣體分析儀採用原位安裝方式,響應快速,無需提取和調節樣品。 這為需要提取和調節氣體的技術提供了可靠而具有成本效益的替代方案。
Fast, Intuitive Navigation
適用於具有挑戰性的安裝場景
GPro 500一氧化碳含量範圍光譜分析儀可進行設定,使其測量系統能夠與多種流程配接器配合使用,以適應廣泛的安裝需求,包括直徑50 mm到1米以上的管道。
Plug and Measure
預測性診斷功能可確保長久的使用壽命
此款CO(含量%)氣體分析儀採用智慧型感測器管理(ISM)技術,可針對分析儀狀態提供預測性診斷,包括在需要清潔光路時通知您。
Easy Configuration

文件

手冊

Gas Analytics Brochure
Plant safety, product quality, high productivity: that’s what’s most important to you. And that’s why our approach to designing gas analyzers and sens...

單張型錄

CO% Range Gas Analyzer: GPro 500
The GPro™ 500 carbon monoxide percent gas analyzeris a unique tunable diode laser spectrometer designed for measurement of CO in a gas stream at high...

Application Notes

Process Analytics
pH值/ORP(氧化還原)探針;氧氣、二氧化碳、臭氣感測器;生物負荷、總有機碳、氣體、鈉、矽與氯化物/硫酸鹽分析儀;傳送器

White Papers

Process Gas Analyzers – 5 Problems
This white paper looks at five issues around process gas analyzers and how tunable diode laser (TDL) spectrometers circumvent them.

案例研究

氣體分析儀 - 氣體感測器
這些高度可靠的氣體分析儀設計是針對工業和化學過程中的各種氣體提供快速響應時間。 可調諧二極體雷射(TDL)分析儀和安培氧氣感測器都不需要取樣或調節,有助於減少停機時間,提高流程的安全性,降低擁有成本。 METTLER TOLEDO提供一系列的氣體氧氣分析儀,以及O₂、CO₂、CO、HCl、H₂S、水...
Process Analytics
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