Wasseraufbereitungsparameter
In der Halbleiterfertigung
Die Halbleiterindustrie ist bei der Herstellung von modernen integrierten Schaltkreisen auf Reinstwasser (UPW) von höchster Qualität angewiesen. In diesem On-Demand-Webinar werden die kritischen Analyseparameter behandelt, die für die Produktion von Reinstwasser erforderlich sind, und wir legen dar, wie Messungen zur Verbesserung der Prozesskontrolle eingesetzt werden können.
Der Referent erläutert nicht nur die entscheidenden prozessanalytischen Parameter für die Überwachung von Ionen, organischem, gelöstem Sauerstoff und Kieselsäure in der Reinstwasser-Reinigungsstation, sondern er erklärt auch, wo diese genau im Prozess überwacht werden müssen.
Es werden die empfohlenen Grenzwerte für die entscheidenden prozessanalytischen Parameter zur Überwachung von Reinstwasser und die entsprechenden Standards angesprochen. Der Referent geht außerdem auf die analytischen Instrumente ein, die zur Bereitstellung zusätzlicher Informationen und zur Kontrolle der Reinstwasserproduktion verwendet werden sollten. Die Messung von Widerstand, TOC, Kieselsäure und gelöstem Sauerstoff ist nicht nur entscheidend für die Aufrechterhaltung höchster Reinstwasserqualität, sondern diese Parameter sind auch wichtige Messgrößen für den Einsatz von Reinstwasser in einer Vielzahl von Halbleiter-Anlagen.
