因應純水處理及渦輪保護的二氧化矽測量

背景
二氧化矽會隨著蒸汽揮發，然後以矽酸鹽形式沉積在高壓渦輪葉片中、非常難以去除。在渦輪中，即使是最節制厚度的矽酸鹽也會減少容量、降低效率，並可能導致失衡。直接、連續的二氧化矽測量是最佳手段，能夠避免用過之陰離子樹脂所造成和蒸汽所攜帶來的污染。2800Si分析儀能夠在使用者設定的固定期間進行無人值守的自動全幅校正。