Przyłącze procesowe typu „wafer” do analizatora gazu z przestrajalnym laserem diodowym GPro 500 jest przeznaczone do stosowania w małych, wąskich rurach. Umożliwia dokładny pomiar O2 i innych gazów w rurach o średnicy do DN50 (2") bez zakłócania przepływu.
Pomiar gazu in situ w wąskich rurach
Przyłącze typu „wafer” ułatwia pomiar gazu in situ w małych rurach. Pozwala uzyskać maksymalną wszechstronność dzięki współpracy z pełną gamą czujników gazu GPro 500.
Bez systemu pobierania lub kondycjonowania próbek
Przyłącze celi płytkowej działa bez systemu pobierania lub kondycjonowania próbek. Eliminuje to koszty i przestoje pomiarów.
Brak konieczności wyrównywania
Przyłącze procesowe „wafer” jest autonomiczną jednostką integrującą się bezpośrednio z rurą. Zapewnia dokładny pomiar bez ograniczania przepływu gazu.
Efektywna długość ścieżki | 104 mm, 110 mm, 154 mm, 164 mm, 214 mm (4,09", 4,33", 6,06", 6,46", 8,43") |
Mierzony gaz | Integracja z analizatorami GPro 500 do pomiaru tlenu, CO₂, CO, HCl, H₂S, wilgoci, metanu, amoniaku |
Dolna granica wykrywalności | W zależności od wybranego analizatora |
Dane techniczne | Przyłącze procesowe współpracuje z analizatorem gazu GPro 500, umożliwiając montaż w wąskich rurach. |
Przyłącze procesowe lub czujnik | Przyłącze procesowe |
Pomiar in situ w małych rurach Przyłącze typu „wafer” do analizatora gazu TDL GPro 500 umożliwia pomiar gazu in situ w małych rurach. Przyłącze typu „wafer” można montować w rurach DN50/80/100, a także w rurach ANSI 2"/3"/4", które stanowią wyzwanie dla innych typów analizatorów TDL. |
Niższe koszty konserwacji przez cały okres eksploatacji Znaczącym kosztem związanym ze stosowaniem analizatorów gazu jest system pobierania i kondycjonowania próbek, który wiąże się z dużymi nakładami konserwacyjnymi. Regularna konserwacja tych systemów znacznie zwiększa całkowity koszt posiadania. Dzięki analizatorowi z przyłączem „wafer” systemy te są całkowicie zbędne. |
Prostsze planowanie montażu i mniejsze nakłady Liczne analizatory gazu TDL wymagają wiele planowania i nakładów w związku z koniecznością ich wyrównania podczas montażu. Wymóg ten eliminuje przyłącze adaptacyjne „wafer”, które integruje się z rurą i jest wyposażone w przyłącza do pomiaru gazu okrywowego, temperatury i ciśnienia. |
Szeroki wachlarz zastosowań Przyłącze płytkowe stwarza nowe możliwości montażu w szerokim zakresie procesów. Typowe zastosowania to m.in. monitorowanie gazu odlotowego w spalarniach oraz śledzenie czystości i suchości surowca. |