2026 年 5 月 8 日，由上海集成电路材料研究院、国家新材料测试评价平台电子化学品行业中心主办，梅特勒托利多科技（中国）有限公司、默克化工技术（上海）有限公司联合主办的光刻胶技术沙龙在上海张江成功举办。本次会议聚焦集成电路关键材料领域，共探光刻胶技术创新与产业发展新路径。
沙龙现场，多位行业专家、学者围绕技术痛点与产业实践展开深度分享。复旦大学微电子学院伍强教授分享了光刻工艺标准体系与多参数协同控制的核心逻辑，系统剖析了工艺参数间的复杂关联与匹配难点，并结合仿真工具应用，为光刻胶工艺优化与质量管控提供了可落地的技术思路。
梅特勒托利多中国区市场中心负责人邓桂凤女士作开场致词。
伍强教授作《光刻工艺标准与多参数复杂对应》报告。伍教授详细阐述了光刻工艺五大核心参数的具体指标，重点推介了拥有完全自主知识产权的国产光刻仿真软件套，强调CF系列软件历经20年生产实践验证，是目前国内唯一拥有自主知识产权的EUV SMO软件工具。
苏州国家实验室沈伊凡博士从产业实际需求出发，剖析了当前光刻胶及原材料评价环节的核心挑战，详细阐述了关键性能参数的测试体系与评价标准，为国内光刻胶企业解决研发验证难题提供了清晰的技术路径。
上海集成电路材料研究院李春华主任详细介绍了光刻胶及配套试剂的全链条测试技术体系，围绕金属杂质、颗粒度、水分、粘度、分子量、热性能、膜厚、成分结构等核心指标，系统讲解了高精度检测方法，并分享了高分子结构表征等关键技术，全面展示了集材院在集成电路材料检测领域的专业能力。
梅特勒托利多集团战略大客户经理黄子龙分享报告，聚焦实验室自动天平、自动化反应器、在线红外、热分析、滴定及快水水分仪等产品线，系统支撑光刻胶研发、工艺控制与质量分析全链路，重点覆盖分子结构控制、热物理性能表征；工艺过程提供在线参数监测（电导率、TOC、气相氧）及高精度称重等关键方向，助力国产光刻胶从研发、工艺放大到质量管控的全生命周期打通。
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默克化工技术（上海）有限公司丁晓栋讲解《超纯水在金属杂质检测中的应用》。报告聚焦光刻胶痕量离子分析时对超纯水的水质要求、超纯水机选型与维护要点。着重介绍了带有EDI模块的纯水系统搭配 IQ Element模块，对于水中金属杂质以及难以去除的硼和硅的有效去除，帮助客户提升实验效率。
茶歇期间，梅特勒托利多现场展示了实验室天平、滴定仪、在线红外、DSC、TOC、气相氧等分析仪表及工业称重样本。与会嘉宾积极驻足交流，围绕仪器操作细节及实际应用场景与现场技术人员进行了深入探讨与体验。
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关于梅特勒托利多
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