实时显微镜 | 采用PVM技术的ParticleView
实时显微镜

使用实时显微镜观察颗粒、晶体和液滴

采用PVM技术的ParticleView

 

利用基于图像的证据解决颗粒难题

常见实时显微镜应用包括:

  • 控制晶体尺寸和形状分布
  • 使用溶解度和介稳区宽度(MSZW)开发结晶工艺
  • 对于在结晶过程中加入晶种的研究与优化
  • 观察和表征相分离(出油)
  • 直接观察放大规模如...

常见实时显微镜应用包括:


自 2001 年收购 Lasentec 之后,梅特勒-托利多持续推动着采用 FBRM技术 的 ParticleTrack 以及采用 PVM 技术的 ParticleView 的开发。 从研发实验室到制造工厂,我们基于探头的技术在世界各地进行了成千上万次的安装,被公认为是测量和观察工艺过程中自然存在的颗粒和液滴系统变化速率与程度的黄金标准。


 

采用PVM技术的ParticleView
如何使用ParticleView

产品和规格

颗粒录影和测量 (PVM) 型号

 
产品和规格
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探头液接材料
探头窗口材料
探头液接温度范围
探头液接压力范围
认证
物料号: 14000031
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探头液接材料C22 合金
探头窗口材料蓝宝石
探头液接温度范围-80 °C 至 120 °C (吹扫); 10 °C 至 120 °C(标准)
探头液接压力范围0 barg 至 10 barg(标准); 高达 100 barg(自定义)
认证IEC/UL/CSA 61010-1; EN 61326-1; 1 级激光设备,符合 21CFR1040.10、21CFR1040.11 和 IEC 60825 标准; 探头后端,额定值为 IP65 和 4X
适用于实验室: EasyMax、OptiMax 或更高版本
软件iC PVM
成像系统前置激光器: 背散射图像; 后置激光器: 使用可选的夹合式反射器传输图像
照明内部光源; 前置激光器: 4; 后置激光器: 4
探头窗口密封TM(标准,无 o 型环 )
探头直径19 mm [0.75 in]
探头浸湿长度400 mm [15.75 in]
导管长度2 m [6.6 ft]
视野1300 um x 890 um
光学分辨率> 2 um
图像分辨率1500 x 1024 pixels
重量(探头、接口单元和电缆)1.45 kg [3.20 lb]
空气要求使用清洁干燥的空气或氮气进行吹扫; 低流速吹扫(可选,避免冷凝),1.4 barg [20 psig],0.5 SLPM [0.02 SCFM]
电源要求供电 USB 扩展器; 100-240V (自动切换), 50/60Hz,0.3A
对比

文件记录

基于探头的实时显微镜文档记录

单页样本

ParticleView V19 With PVM Technology
Visualize particles and particle mechanisms in real time to study particle size and shape
iC PVM Software
View particles in real time to study particle size, shape and concentration with iC PVM

白皮书

7种结晶机理
该指南描述了可能影响结晶过程的7种隐性机理,并概述了用于控制这些过程的策略。
化学结晶过程
化学家现在要花费更多时间来研发更好的结晶工艺,改善中间体合成步骤(杂质剔除和有效的下游处理至关重要);优化最终产物合成步骤(结晶工艺将在严格的监管指导和所需的生物利用度下产生最终的活性成分)。 通过采用简单的过程分析技术 (PAT),化学家无需高水平的专业知识就可以深入了解结晶。 这种技术的一个例子...
如何使用简单的图像分析优化结晶步骤
通过快速识别不必要的持续时间和确定冷却速率对晶体生长与成核影响后,中间结晶步骤的周期缩短了 60%。
用于工艺优化的颗粒粒径分析
该白皮书介绍了一些最常见的颗粒粒径分析方法以及如何应用这些方法,以便高效交付高品质颗粒产品。 尤其是,科学家现在能够将离线颗粒粒径分析仪与过程中颗粒表征仪器相结合,以优化和改进工艺。

应用

结晶和沉淀
为生产出始终满足纯度、产量、形态及颗粒粒径规格的产品,结晶与沉淀的优化和放大可能是工艺开发所面临的最大挑战之一。
Optimization and Scale-up of Batch Crystallization
A well-designed batch crystallization process is one that can be scaled successfully to production scale - giving the desired crystal size distributio...
Solubility and Metastable Zone Width (mzw) Determination
溶解度曲线通常用于说明溶解度、温度和溶剂类型之间的关系。 通过绘制温度和溶解度之间的曲线,科学家可创建开发所需结晶过程需要的框架。 一旦选择了适当的溶剂,溶解度曲线便成为研发高效结晶过程的主要工具。
Crystal Nucleation and Growth
科学家和工程师们通过小心调节过饱和程度来控制结晶过程。 过饱和度是结晶成核与生长的驱动力,因此会决定最终的晶体尺寸分布。
Measure Crystal Size Distribution
基于探头的过程技术应用于跟踪全浓度下的颗粒粒径与形状变化,而无需稀释或提取。 通过实时跟踪颗粒和晶体的变化速率与变化程度,可优化结晶性能的工艺参数。
在结晶过程中加入晶种的方案
晶种加入是优化结晶行为的最重要工序之一。 在设计晶种加入策略时,必须考虑重要参数,如:晶种粒径、晶种加入量(质量)与晶种添加温度。 通常根据过程动力学以及所需最终颗粒物性对这些参数进行优化,这些参数在扩大生产与技术转移时必须保持一致。
滴加反溶剂实现过饱和度
在反溶剂结晶过程中,溶剂添加速率、添加位置与混合会对容器或管道内的局部过饱和度产生影响。 科学家与工程师通过调整反溶剂添加方案与过饱和度更改晶体粒度与粒数。
温度会对结晶尺寸和形状产生影响
冷却曲线对过饱和度和结晶动力学产生重要影响。 工艺温度经过优化,与晶体表面相匹配,可实现优化生长而不是成核。 通过控制温度来调整过饱和度、晶体尺寸和形状的先进技术。
温度会对结晶尺寸和形状产生影响
更改结晶器规模或混合条件会直接影响结晶过程的动力学和最终晶体尺寸。 传热和传质效应分别是冷却系统和反溶剂系统的重要考量因素,其中温度梯度或浓度梯度会形成实际过度饱和的不均匀性。
过程分析技术(PAT)
过程分析技术(PAT)正在改变研发、放大生产与制造的方式。 PAT可提高生产效率,提高安全性和为快速故障排除提供测量结果。 过程分析技术(PAT)应用广泛,包括监测化学反应、结晶、配方与生物加工等。

相关产品和解决方案

梅特勒-托利多Lasentec FBRM
在将探头式仪器直接插入工艺流之后,聚焦光束反射测量(FBRM)技术可研究粒径与粒数的不断变化情况。
化学合成反应器
化学合成反应器可提高实验室工作效率
FTIR光谱
实时监测化学反应的傅里叶变换红外(FTIR)光谱

软件

iC PVM particle characterization software
通过实时观察颗粒获得并分享过程知识,以利用 iC PVM 软件了解颗粒粒径、形状和浓度。
iC Data Center for OM/EM-1 Year
采集、制备、共享实验数据

引文

Crystallization and Precipitation Citation List
Crystallization and precipitation citation list and publications

点播网上技术交流讲座

Traditional Offline Microscopy
本次演示阐述了如何使用实时显微镜观察颗粒、晶体和液滴,从而在更短的时间内以较之传统显微镜更低的成本开发高质量的工艺。
Crystallization Image Analysis
This presentation describes the role of image analysis in crystallization monitoring.
Liquid-Liquid Phase Separation
此报告描述了为避免液-液相分离(LLPS)或者油析采取适当的策略,以开发稳定且可放大的结晶工艺。
Agglomeration & Crystallization Using Particle Measurement
This presentation details how using data from in situ particle vision and measurement tools can be used to determine particle size and shape trends re...

V19硬件支持

Positioning a ParticleTrack or ParticleView Probe
ParticleTrack probes use Focused Beam Reflectance Measurement (FBRM) technology to track the rate and degree of change to particles and particle struc...
Using the Purge Controller for ParticleTrack G400 or ParticleView V19
The Purge Controller is an optional accessory that can be purchased for use with ParticleTrack G400 and ParticleView V19. Purging is required where...
ParticleView V19 Hardware Manual
This manual covers specific safety and quality information relating to the ParticleView V19 with PVM (Particle Vision Measurement) technology. The P...
ParticleView V19 Safety Manual
This safety manual supplements the ParticleView V19 with PVM Technology Hardware Manual.
ParticleTrack & ParticleView Onsite Training
Training and familiarization with ParticleTrack and ParticleView will ensure that all users can walk up to instruments and immediately bring value to...

软件支持

iC PVM Software Quick Start Guide
This guide introduces a new user to the iC PVM software graphical user interface (GUI) and describes several choices for getting started. Create and r...
iC PVM Software User Install Guide
iC PVM installation is wizard-guided. This guide includes detailed installation steps along with implementation information for the iC PVM administra...
ParticleTrack & ParticleView Onsite Training
Training and familiarization with ParticleTrack and ParticleView will ensure that all users can walk up to instruments and immediately bring value to...
iC PVM particle characterization software
通过实时观察颗粒获得并分享过程知识,以利用 iC PVM 软件了解颗粒粒径、形状和浓度。

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